光刻胶的主要成分（光刻胶的作用）

今天菲菲来为大家解答以上的问题。光刻胶的主要成分，光刻胶的作用相信很多小伙伴还不知道,现在让我们一起来看看吧！

1、光刻开始于一种称作光刻胶的感光性液体的应用。

2、图形能被映射到光刻胶上，然后用一个developer就能做出需要的模板图案。

3、光刻胶又称光致抗蚀剂，是以智能管感光材料，在光的照射与溶解度发生变化。

4、光刻胶成份光刻胶通常有三种成分：感光化合物、基体材料和溶剂。

5、在感光化合物中有时还包括增感剂。

6、根据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类：负性光刻胶和正性光刻胶。

7、负性光刻胶主要有聚肉桂酸系（聚酯胶）和环化橡胶系两大类，前者以柯达公司的KPR为代表，后者以OMR系列为代表。

8、2、正性光刻胶 主要以重氮醌为感光化合物，以酚醛树脂为基体材料。

9、最常用的有AZ-1350系列。

10、正胶的主要优点是分辨率高，缺点是灵敏度、耐刻蚀性和附着性等较差。

11、gkjyy.jpg 光刻胶的特点 在光的照射下溶解速率发生变化，利用曝光区与非曝光区的溶解速率差来实现图形的转移； 2、溶解抑制/溶解促进共同作用； 3、作用的机理因光刻胶胶类型不同而不同； 光刻胶的主要技术参数 分辨率：区别硅片表面相邻图形特性的能力，一般用关键尺寸来衡量分辨率。

12、形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。

13、 2、对比度：指光刻胶从曝光区到非曝光区过渡的陡度。

14、对比度越好，形成图形的侧壁越陡峭，分辨率越好。

15、 3、敏感度：光刻胶上产生一个良好的图形所需一定波长的最小能量值（或最小曝光量）。

16、单位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。

17、光刻胶的敏感性对于波长更短的深紫外光（DUV）、极深紫外光（EUV）等尤为重要。

18、 4、粘滞性/黏度：衡量光刻胶流动特性的参数。

19、粘滞性随着光刻胶中的溶剂的减少而增加；高的粘滞性会产生厚的光刻胶；越小的粘滞性，就有越均匀的光刻胶厚度。

20、 5、粘附性：表征光刻胶粘着于衬底的强度。

21、光刻胶的粘附性不足会导致硅片表面的图形变形。

22、 6、抗蚀性：光刻胶必须保持它的粘附性，在后续的刻蚀工序中保护衬底表面。

23、 7、表面张力：液体中将表面分子拉向液体主体内的分子间吸引力。

24、光刻胶应该具有比较小的表面张力，使光刻胶具有良好的流动性和覆盖。

25、 8、存储和传送：能量可以激活光刻胶。

26、应该存储在密闭、低温、不透光的盒中。

27、同时必须规定光刻胶的闲置期限和存贮温度环境。

28、 光刻胶的主要作用 将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层； 2、在后续工序中，保护下面的材料（刻蚀或离子注入）。

本文就为大家分享到这里，希望小伙伴们会喜欢。

免责声明：本文由用户上传，如有侵权请联系删除！